上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机

统筹上海张江科学城开发建设的张江集团透露，中国半导体装备制造商上海微电子已成功研制出28纳米光刻机。

上海张江（集团）有限公司12月19日在集团微信公众号“你好张江”发文称，“作为国内唯—一家掌握光刻机技术的企业，上海微电子已成功研制出28nm光刻机。”

陆媒《钛媒体》形容，张江集团公布的这一消息，标志著中国最新28纳米前道光刻机研发进展首次被官方披露。

张江集团是一家统筹承担张江科学城开发建设、专案引进等重要功能的国有独资公司，隶属于上海市浦东新区政府监管单位。“天眼查”资讯显示，张江集团是上海微电子的第四大股东。消息传出后，张江集团股价飙升了8%。

不过，张江集团之后对文章进行了修改，目前的文章中拿掉了关于28纳米的表述，改为“作为国内唯一一家掌握光刻机技术的企业，上海微电子致力研制先进的光刻机。”

上海微电子（SMEE）成立于2002年，是由中国多家产业集团和投资公司共同投资组建的高科技股份有限公司。公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。

在美国去年加大力度遏制中国芯片产业发展的背景下，美国商务部将上海微电子列入黑名单。

另据《彭博社》报道，虽然28纳米芯片于2011年首次问世，但上海微电子的最新成果意味著中国可能已将与该领域领先者的差距缩小了几年。

此前，中国自己的光刻技术落后荷兰公司约20年。尽管现在的光刻技术更加成熟，28纳米芯片对于智能手机和电动汽车等众多产品仍然至关重要。

本文获《联合早报》授权刊载。