清华大学与德国团队研究新型粒子加速器光源　未来或应用于光刻机

清华大学媒体《清华新闻网》近日宣布，该校工程物理系教授唐传祥研究组，与来自德国亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心（HZB）以及德国联邦物理技术研究院（PTB）的合作团队，在《自然》（Nature）杂志上发表了题为“稳态微聚束原理的实验演示”的研究论文，报告一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（Steady-state microbunching，简称SSMB）的首个原理验证实验。

内地传媒指出，光源是光刻机的关键技术之一，上述研究与极紫外（EUV）光刻机光源密切相关。不过有光刻领域研究人员受访就指，上述研究只是实验室首次验证，距离实际应用还很远。

据介绍，在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。上述研究的成果是可基于SSMB的原理以获得高功率、高重频、窄带宽的相干辐射，波长可覆盖从太赫兹到极紫外（EUV）波段。

唐传祥受访时亦称，国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因，是SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，大功率EUV光源的突破对于EUV光刻进一步的应用和发展至关重要。“基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力，为大功率EUV光源的突破提供全新的解决思路。”

事实上，大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础，目前行业巨头荷兰ASML公司所采用的是高能脉冲激光轰击液态锡靶，形成等离子体然后产生波长13.5nm的EUV光源，功率约250瓦。但随著芯片工艺节点的不断缩小，预计对EUV光源功率的要求将不断提升，达到千瓦量级。

（综合报道）