华为芯片断供危中有机?日媒称中企拟与日本厂商研发光刻机
撰文: 布蓝
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芯片制造离不开光刻机,日媒近日报道中国有意联合日本科技巨头共同研发光刻机的消息。分析指,这将为遭美国断供的华为带来转机。
据《日本经济新闻》网站10月15日报道,业内人士透露,为了推进极紫外线以外的EUA光刻设备的研发进程,中国企业已经打算提供资金,联合尼康(Nikon)、佳能(Canon)这两间日本厂商共同研发光刻机。
日本调研机构GlobalNet曾推算,在2019年的全球半导体光刻设备市场,尼康EUA二代光刻机设备所占据的市场份额为35%,佳能在EUA三代设备的市占率则为26%。因此,如果能与中企合作突破“立体化”技术,这两家企业的市场地位也将随之提升。
另外,日本业内还认为,由于中国半导体市场规模庞大,加上又有超过1,000家半导体企业,完全有破局之法。
报道同时指出,在当前的关键设备供应受限之际,华为、中芯国际等中企完全可以“借道”其他企业进口半导体芯片、设计软件和制造设备,从而间接采购和扩充相关生产设备。
在华为遭断供后,中纪委机关报《中国纪检监察报》曾发表题为《华为芯片断供 “卡脖子”倒逼攻坚》的文章,形容华为面临危机的同时,或许也是中国芯片产业涅槃的开端。
而华为消费者业务软件部总裁王成录也曾称,芯片问题反而给了企业反思,没有选择就是最好的选择。限制反而让大家有一个非常好的机会,危、机并存。
另据光刻机龙头企业阿斯麦(ASML)总裁兼首席执行官(CEO)Peter Wennink称,“根据当前法规,ASML无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰向中国客户出货DUV光刻系统;对于直接从美国发货系统或零件到受法规影响的客户,ASML需获得许可证。”外界分析亦认为,随着时间的推移,华为还在迎来转机。